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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子表面處理需要控制的真空度約為100Pa

     等離子表面處理是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質。等離子清洗、刻蝕產生等離子表面處理的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子問距及分子或離子的白由運動距離也越來越長,受磁場作用,發生碰撞而形成等離子表面處理,同時會發生輝光。等離子表面處理在電磁場內空間運動,并轟擊被處理物體表面,從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。
      與傳統使用有機溶劑的濕法清洗相比,等離子表面處理具備以下幾大優勢:
      1.清洗對象經等離子表面處理之后是干燥的,不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;
      2.采用無線電波范圍的高頻產生的等離子表面處理與激光等直射光線不同。等離子表面處理的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務,因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。
      3.等離子表面處理需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統的濕法清洗工藝;

      4.等離子表面處理使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題。

等離子表面處理

      5.避免使用工氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環保的綠色清洗方法。這在全球高度關注環保的情況下越發顯出它的重要性!
      6.等離子表面處理可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材質,無論是金屬、半導體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子表面處理米處理。
      7.使用等離子表面處理,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產場地很容易保持清潔衛生;
      8.使用等離子表面處理,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成,因此具有產率高的特點;
      9.在完成清洗去污的同時,還可以改善材料不身的衣面性能。如提高表面的潤濕性能、善膜的黏著力等,這在許多應用中都是非常重要的。
      目前等離子表面處理應用越來越廣泛,國內外的使用者對等離子體清洗的要求也越來越高。好的產品還需要專業的技術支持與維護。

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