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CRF plasma 等離子清洗機

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CRF真空等離子清洗機-相較常壓等離子清洗電子產品成品率更高

                  等離子體腐蝕是一種各向異性腐蝕技術,它能保證刻蝕圖案、特殊材料的選擇性和腐蝕(效)果的一致性。在真空等離子清洗機等離子體腐蝕中,基于等離子體的物理腐蝕和基于活性基團的化學腐蝕同時發生。觸摸屏玻璃涂層-獲得可靠的涂層(效)果,手機攝像頭涂層前處理-提高粘結強度,晶片/芯片焊接-提高焊接強度,在不破壞晶片表面性能的情況下,利用等離子體處理設備清掉表面有(機)物和雜質,清掉金屬和金屬氧化 。   


       電阻保險絲的結構:鍍鎳金屬、環氧樹脂、鍍鎳金屬、鍍鎳金屬表面需要等離子清洗機處理。一方面,產生的等離子體與肉眼看不到的有(機)物反應氣化,使鍍鎳金屬表面更加干凈;另一方面,等離子體在金屬表面形成活性基團,有利于環氧膠的密封。 
      目前對于PCB線路板的(活)化處理:高頻產生的等離子體方向性不強,可以深入物體的微細孔眼和凹陷內,特別適合用于線路板生產中盲孔以及微小孔的清洗;整個清洗工藝流程在幾分鐘內即可完成,具有(效)率高的特點。 
      本發明屬于干式工藝,使用工序簡單,處理質量穩定可靠,處理工藝簡單,適于批量生產。與化學法處理的萘鈉液相比,它們不易合成,毒性大,保質期短,需要根據生產情況配制。對于容易氧化的產品或電子元件、帶有線路板的表面,小編建議選擇CRF真空等離子清洗機進行表面處理。 



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