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CRF plasma 等離子清洗機

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分析了誠峰等離子體設備在處理物質時通入N2的作用

       誠峰等離子體設備常用汽體為N2。這類汽體主要與在線等離子體相結合,用于材料表面的活化改性。可在真空中運用。N2對改善材料表面的侵潤性有一定作用。氮是1種非特異性汽體,在等離子體設備清洗過程中,主要作為非反應性氣體存在,氮等離子體可以提高材料的硬度和耐磨性。有時氮氣還可以用作1種特異性汽體,并形成氨的化合物。在運用氮氣或在等離子體中作為1種非反應性氣體時,更容易發生。1種全新的高科技技術,是用等離子體來實現1種傳統的清潔方法所不能達到的效果。等離子體是物質的1種狀態,也稱為物質的第四態,與大部分的固體汽體三態不同。向汽體增加充足的電能,使其離化,即為等離子態。血漿中的“特異性”成份包括:離子.電子.原子.特異性基.受激態核素(亞穩態).光子等。等離子體設備便是使用這類特異性成份對樣品表面進行處理,以達到潔凈、涂布等目的。

等離子體設備

      誠峰等離子體設備按汽體可分為特異性汽體和非特異性汽體等離子體:根據產生等離子體時運用的汽體的化學性質,氬氣(Ar)、N2、氟化氮(CF4)、四氟化碳(CF4)、空氣等不特異性汽體有不同的反應機理,但特異性汽體等離子體的化學反應特異性較高。氣態、等離子體設備用來清洗的污染物也應有不同的選擇。1種汽體滲透到一個或多個附加汽體時,這類元素的混合氣體的混合氣就會產生我們想要的腐蝕和清潔效果(果)。使用等離子體設備中的離子或高活性原子,使表面污染物撞擊或形成揮發性汽體,再通過真空系統帶走,以達到凈化表面的目的。
       在高頻率電磁場中,空氣中的氧,如甲烷。水蒸汽等汽體分子在電弧放電的情況下,能細化出在快速電磁場中位于低氣壓狀態的氧。這種電子在電磁場加速時獲得了高能,并與周圍的分子或原子發生碰撞,重新在分子和原子中激發電子,而這類電子本身位于受激態或離子態,此時物質存在的狀態便是等離子體。除汽體分子.離子和電子外,等離子體中存在電性中性的原子或原子團,它們位于1種電能激發狀態,也稱為自由基,等離子體發射出波段長的光.等離子體與物質表面相互作用時,電能具有重要作用。

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