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誠峰智造晶圓加工專用plasma設備表面處理中的應用

誠峰智造晶圓加工專用plasma設備表面處理中的應用:
       晶圓加工是國內半導體產業鏈中資金投入較大的一部分,plasma設備目前在硅片代工中應用廣泛,誠峰智造也有專用晶圓加工等離子體設備。
       中國晶圓代工部分在整個半導體產業鏈上投入了大量資金。具體地說,晶圓代工就是在硅晶圓上制造電路和電子元器件,這一步對于整個半導體產業鏈來說,技術比較復雜,而且投資領域比較廣。plasma設備主要用于去除晶片表面的微粒,徹底去除光刻膠和其他有機化合物,活化及粗化晶片表面,提高晶圓表面的浸潤性能等,等離子體設備在晶片表面處理方面的處理效果明顯,目前在晶圓加工中廣泛使用。
       光刻晶圓工藝是整個晶圓代工過程中的一個重要工序。該方法的原理是將一層高光敏感度的阻光層覆蓋在晶圓片的表面,隨后將自然光穿透掩模照射到晶圓片表面,被自然光照射的阻光劑就會起反應,從而實現電路的移動。

plasma設備

       晶圓刻蝕:就是把晶圓表面區域用光阻劑顯露出來的過程。它主要分為兩種:濕式蝕刻和干式。簡而言之,濕式刻蝕僅限于2微米的圖形尺寸,而干式刻蝕則用于更為精細、要求更高的電路。
晶圓級封裝等離子體處理是一種干式清洗方式,具有一致性好、可控制等特點,目前,plasma設備已逐步在光刻和刻蝕前后道工藝中推廣應用。
       如您對plasma設備感興趣或想了解更多詳情,請點擊誠峰智造在線客服咨詢,誠峰智造恭候您的來電!


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