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CRF plasma 等離子清洗機

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plasma設備對生物醫(yī)學工程和芯片材料的清洗

plasma設備對生物醫(yī)學工程和芯片材料的清洗:
       芯片和包裝設計基板的表面的plasma設備加工處理可以有效提升其表面活性,大大提高環(huán)氧樹脂的表面的流動性,提升芯片和包裝設計基板的粘結滲透性,減少芯片和基板的分層,提升導熱性,提升IC包裝設計的可靠性、穩(wěn)定性,提升產品的使用壽命。

plasma設備

       電子器件鍵合線的品質對微電子技術設備的可靠性有決定性的影響,鍵合區(qū)必須無污染物,具備優(yōu)良的鍵合特性。氧化物、有機殘留物等污染物的存在會嚴重削弱鍵合線的拉力值。傳統(tǒng)的濕法清洗不能清除或不能清除鍵合區(qū)域的污染物,而plasma設備清洗可以有效清除鍵合區(qū)域的的表面環(huán)境污染,激活其的表面,可以顯著提升鍵合拉力,大大提高包裝設備的可靠性。
        傳統(tǒng)的清洗方式有一些缺陷:plasma設備清洗后仍有1層很薄的污染物。但如果利用等離子活化工序清洗,弱化學鍵很容易中斷,即使污染物殘留在幾何形狀非常復雜的的表面,也可以清除。
軟管通常由天然膠、硅膠或PVC材料制成。由于材料本身的生物相容性較差,需要等離子改善,以提升基材的滲透性,并在PVC的表面涂上三氯生和溴硝醇。改善后的PVC材料可以殺死細菌和抗細菌的附著力,從而減少材料在使用過程中引起的感染,提升材料的生物相容性。
        培養(yǎng)皿、滾筒、微載體、細胞膜等細胞培養(yǎng)基質的的表面可以利用等離子改善大大提高其潤濕性。利用控制的表面的化學結構,的表面能量和的表面電荷工作狀態(tài)可以改善細胞生長、蛋白質結合和特定細胞的附著力。低溫等離子體加工處理工序是1種中性、無污染的干法加工處理,可以潔凈基體的表面,改善基體材料的的表面能量、滲透性活化性。

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