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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子設備-等離子設備處理半導體封裝表面的應用

       在半導體技術封裝的生產(chǎn)過程中,由于各種電漿、助焊劑、交叉污染、自然氧化、器件和產(chǎn)品等因素造成了各種外面污染,包括環(huán)氧樹脂、光阻劑和焊料、金屬鹽等。這一點對包裝的生產(chǎn)工藝有很大的影響。使用等離子設備可以很容易地通過污染分子級生產(chǎn)過程中所形成的清掉,確保原子與原子間緊密接觸工件外面的附著力,從而有效地增強粘接強度,可以改善晶片拼接水平,縮減泄漏率,增強包裝效能,增加產(chǎn)量和可靠性。

等離子設備

       經(jīng)等離子清洗設備清洗后,物體的鍵合單元,結合強度上升。引線拼接:在芯片拼接基片前和在高溫固化后,現(xiàn)有污染物可能含有微粒和氧化物,這些污染物的物理化學和化學反應鉛,以及芯片與基片之間的焊接不良,粘結強度差,附著力不足。射頻等離子清洗可以顯著增強引線連接線的表面活性,增加其結合強度和抗拉強度。焊接頭上的壓力可以很低(有污染物時,焊接頭穿透污染物,需要很大的壓力),有時鍵合溫度也可以縮減,提高產(chǎn)量,(降)低成本。

       膠封:環(huán)氧樹脂生產(chǎn)過程中,污染物造成泡沫發(fā)泡率高,導致產(chǎn)品質(zhì)量和使用年限較低,因此在避免密封泡沫的過程中也要注意。高頻等離子體下清洗后后,芯片與基片之間的粘結更緊密,形成的泡沫將大大減少,同時還能顯著增強散熱率和發(fā)光效率。
       選擇半導體技術封裝的等離子設備新工藝關鍵在于產(chǎn)品外面后續(xù)新工藝的的標準、產(chǎn)品外面的原始特性化學成分和污染物的性質(zhì)。常用于等離子清洗氬氣、氧氣、氫氣、四氟化碳及其混合氣體。
小    銀橡膠襯底:污染物橡膠銀為球狀,就會影響芯片,特別容易損傷晶片,使用射頻等離子清洗可大幅提高表面粗糙度和親水性,有利于銀橡膠芯片和瓷磚芯片,同時使用量可節(jié)約銀橡膠,減少成本。
       以上是小編整理的等離子體設備在led包裝中的應用,使用的用戶都說產(chǎn)品通過等離子設備處理后,產(chǎn)品的性能改善了,而且清洗后沒有指紋、焊劑、交叉污染等,現(xiàn)在可以和小編商量,提供免費的測試樣品

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