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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

等離子設(shè)備-等離子設(shè)備處理半導(dǎo)體封裝表面的應(yīng)用

       在半導(dǎo)體技術(shù)封裝的生產(chǎn)過(guò)程中,由于各種電漿、助焊劑、交叉污染、自然氧化、器件和產(chǎn)品等因素造成了各種外面污染,包括環(huán)氧樹脂、光阻劑和焊料、金屬鹽等。這一點(diǎn)對(duì)包裝的生產(chǎn)工藝有很大的影響。使用等離子設(shè)備可以很容易地通過(guò)污染分子級(jí)生產(chǎn)過(guò)程中所形成的清掉,確保原子與原子間緊密接觸工件外面的附著力,從而有效地增強(qiáng)粘接強(qiáng)度,可以改善晶片拼接水平,縮減泄漏率,增強(qiáng)包裝效能,增加產(chǎn)量和可靠性。

等離子設(shè)備

       經(jīng)等離子清洗設(shè)備清洗后,物體的鍵合單元,結(jié)合強(qiáng)度上升。引線拼接:在芯片拼接基片前和在高溫固化后,現(xiàn)有污染物可能含有微粒和氧化物,這些污染物的物理化學(xué)和化學(xué)反應(yīng)鉛,以及芯片與基片之間的焊接不良,粘結(jié)強(qiáng)度差,附著力不足。射頻等離子清洗可以顯著增強(qiáng)引線連接線的表面活性,增加其結(jié)合強(qiáng)度和抗拉強(qiáng)度。焊接頭上的壓力可以很低(有污染物時(shí),焊接頭穿透污染物,需要很大的壓力),有時(shí)鍵合溫度也可以縮減,提高產(chǎn)量,(降)低成本。

       膠封:環(huán)氧樹脂生產(chǎn)過(guò)程中,污染物造成泡沫發(fā)泡率高,導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量和使用年限較低,因此在避免密封泡沫的過(guò)程中也要注意。高頻等離子體下清洗后后,芯片與基片之間的粘結(jié)更緊密,形成的泡沫將大大減少,同時(shí)還能顯著增強(qiáng)散熱率和發(fā)光效率。
       選擇半導(dǎo)體技術(shù)封裝的等離子設(shè)備新工藝關(guān)鍵在于產(chǎn)品外面后續(xù)新工藝的的標(biāo)準(zhǔn)、產(chǎn)品外面的原始特性化學(xué)成分和污染物的性質(zhì)。常用于等離子清洗氬氣、氧氣、氫氣、四氟化碳及其混合氣體。
小    銀橡膠襯底:污染物橡膠銀為球狀,就會(huì)影響芯片,特別容易損傷晶片,使用射頻等離子清洗可大幅提高表面粗糙度和親水性,有利于銀橡膠芯片和瓷磚芯片,同時(shí)使用量可節(jié)約銀橡膠,減少成本。
       以上是小編整理的等離子體設(shè)備在led包裝中的應(yīng)用,使用的用戶都說(shuō)產(chǎn)品通過(guò)等離子設(shè)備處理后,產(chǎn)品的性能改善了,而且清洗后沒(méi)有指紋、焊劑、交叉污染等,現(xiàn)在可以和小編商量,提供免費(fèi)的測(cè)試樣品

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