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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子清洗機采用的是獨特的腔體設計

       在半導體和LCD等產品的制造過程中,可以使用等離子清洗機來對表面進行清潔,也可以使其表面得到改善,去除外表面所殘留的光刻膠、有(機)污染物、溢出的環(huán)氧樹脂等,還可以使用等離子清洗機來對其表面的性能進行活(化),增加表面的焊接以及封裝能力。除了可以應用于生產制造過程中,還可以應用于FA或者是QA實驗室中。
  在半導體和LCD等產品的制造過程中,可以使用等離子清洗機來對表面進行清潔,也可以使其表面得到改善,去除外表面所殘留的光刻膠、有(機)污染物、溢出的環(huán)氧樹脂等,還可以使用等離子清洗機來對其表面的性能進行活(化),增加表面的焊接以及封裝能力。除了可以應用于生產制造過程中,還可以應用于FA或者是QA實驗室中。

等離子清洗機
  等離子清洗機采用的是獨特的腔體設計,可以提供好的潔凈空間和均勻的等離子分布;其控制操作界面友好,可以進行菜單式的操作和控制,所有的參數(shù)也都實時的顯示在設備的屏幕之上,能夠使操作者隨時根據系統(tǒng)的狀況來進行系統(tǒng)的診斷和操作。
  等離子清洗機主要由三大部分組成:
  1. 控制單元。現(xiàn)在的等離子清洗機主要有全自動控制、半自動控制、PC控制、液晶觸摸屏控制四種控制單元,而控制單元主要由電源、控制系統(tǒng)、控制按鈕和操作顯示器等部分組成。
  2. 真空腔體。真空腔體就是用于清洗對象物的空間,主要有石英腔體和不銹鋼真空腔體。由于其內部采用真空(滅)菌(防)菌以及等離子清洗法,對于腔體壓力的承受有著一定的要求,所以需要采用材質較好的腔體進行配置。
  3. 真空泵。等離子清洗機的主要動力來源就是真空泵,主要作用是將真空腔體中的空氣抽干,達到真空的環(huán)境,然后再進行等離子清洗。真空泵主要分為干泵和油泵。干泵主要以電力為動力源,而油泵則使用汽油或柴油為動力源。


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