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CRF plasma 等離子清洗機

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真空等離子清洗機擁有諸多優勢廣泛應用于表面去污及等離子刻蝕

真空等離子清洗機由真空發生系統、電氣控制系統、等離子發生器、真空腔體及相關機械等幾個部分構成。應用時可以根據客戶的要求定制符合客戶需要的真空等離子清洗機。
真空等離子清洗機有著眾多優點:
1、選用數控加工技術智能化程度高;
2、具備高精密的操縱設備,時間控制精度高;
3、合理的等離子體清理不容易在表層產生損害層,工藝性能得到保證;
4、清理工作中在真空中進行,清理流程環保安(全),不容易造成環境污染,且合理保證清理表層不容易被二次污染。

真空等離子清洗機利用兩個電極形成電磁場,用真空泵實現有效的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子之間的間距及分子或離子的自由運動的距離也越來越長,受磁場作用發生碰撞而形成等離子體并產生輝光。等離子體在電磁場內的空間運動,并不斷轟擊被處理物體表面,去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有(機)物以及其它化學物質,以此達到表面處理清洗和刻蝕的效(果)。


真空等離子清洗機

真空離子清洗機廣泛應用于表面去污及等離子刻蝕,聚四氟(PTFE)及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面(活)化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序,因此廣泛應用于汽車領域、電子領域、軍工電子領域、PCB制成行業等高精密度領域。

真空等離子清洗機整個清洗過程大致如下:
1、首先將被清洗的工件送入真空機并加以固定,啟動運行裝置開始排氣,讓真空腔內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。
2、然后向真空室內引入等離子清洗用的氣體,并保持腔內壓強穩定。根據清洗材料的不同,可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。
3、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿并通過輝光放電而發生等離子化和產生等離子體,讓在真空腔內產生的等離子體籠罩住被處理的工件并開始清洗作業,一般清洗處理持續幾十秒到幾十(分)鐘不等,根據處理材質的不同而定。
4、清洗完畢后切斷電源,并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出,清洗結束。
真空等離子清洗機擁有諸多優勢:如采用數控技術自動化程度高;具有高精度的控制裝置,時間控制精度高;正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層,表面質量得以保證;清洗工作在真空環境中進行,清洗過程環保(安)全,不會污染環境,且有效保證清洗表面不會被二次污染。

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