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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

隱形眼鏡覆膜plasma預(yù)處理技術(shù)

隱形眼鏡覆膜plasma預(yù)處理技術(shù):
       隱形眼鏡,又稱角膜接觸鏡,隱形眼鏡穿戴舒服,表層無菌衛(wèi)生是我們應(yīng)該注意的,隱形眼鏡后面的這些優(yōu)點(diǎn)必須要表層光滑平整、濕潤、耐用性好、穿戴舒服、降低微生物黏附等,這些優(yōu)點(diǎn)有時必須要等離子清潔設(shè)備表層處理工藝。

 plasma

       plasma清潔設(shè)備表層處理后,隱形眼鏡表層可更進(jìn)一步清理,使鏡片表層光滑平整、濕潤、耐用性好,穿戴舒服,降低微生物黏附。
       plasma清潔工藝已逐漸滲透到我們的生活和工作中,并悄然改變了人們的生活質(zhì)量。隨著等離子表層處理工藝的快速發(fā)展,等離子清潔設(shè)備已廣泛應(yīng)用于光學(xué)玻璃、汽車制造、紡織面料、電子電器、包裝印刷、塑料加工、化妝品等行業(yè)。
plasma清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn):
1、plasma清理是1種干式清理技巧,不需要干躁就能送到下一步工藝流程;整體清理過程可在幾分鐘內(nèi)完成,可提高整體工藝裝配線的處理效率。
2、 plasma清理使用戶遠(yuǎn)離有害溶劑對人體的危害,也避免了濕清理中容易破壞清理對象的問題;清理過程中無清洗液運(yùn)輸、儲存、排放等處理技巧,節(jié)能環(huán)保清理技巧;
3、它是廣式的,等離子的方向性不強(qiáng),這使得它可以深入物體的內(nèi)部完成清潔任務(wù),所以不需要過多考慮被清潔物體的形狀。
4、低成本、等離子清潔所需的真空度約為100Pa。這種清潔條件很容易達(dá)到清潔過程,不需要昂貴的有機(jī)溶劑,這使得整體成本低于傳統(tǒng)的濕清理工藝;
5、 plasma清理可以處理各種材料,無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是聚合物材料(如聚烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等聚合物)都可以用等離子處理。因此,特別適用于不耐熱料、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu);
6、在清理去污的同時,還能提高材料本身的表層性能,提高表層的潤濕性能,提高膜的黏附性等。
     plasma清潔設(shè)備是利用第四種形式的材料等離子,在一定壓力下,通過等離子清理產(chǎn)品表層,達(dá)到清理效果,過程中產(chǎn)生的垃圾,是產(chǎn)品能夠順利完成下一步工藝流程,降低產(chǎn)品、粘接、綁定、印刷不良。

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