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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

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醫(yī)療導(dǎo)尿管在O2等離子設(shè)備的作用下會(huì)發(fā)生什么變化?

醫(yī)療導(dǎo)尿管在O2等離子設(shè)備的作用下會(huì)發(fā)生什么變化?
       醫(yī)療導(dǎo)尿管經(jīng)過O2.等離子設(shè)備清洗后,去除導(dǎo)管表面毛細(xì),粗粒變小,使表面光滑。這與表面接觸角的測定結(jié)果一致。導(dǎo)管刻蝕的根本原因涉及物理濺射和化學(xué)刻蝕。plasma體內(nèi)含量極低的帶電活性種在材料表面處理中起著極其重要的作用。考慮到粒子運(yùn)動(dòng)速率遠(yuǎn)高于離子旋轉(zhuǎn)速度,等離子中材料表面的電位相對于plasma體電位為負(fù)值(稱為漂移電位)。高速電子刺激反應(yīng)分子,電離或斷裂成自由基碎片,而正離子不斷轟擊處理材料表面,顯著影響表面的化學(xué)反應(yīng)。

等離子設(shè)備

       化學(xué)刻蝕是由于等離子中活性粒子的能量接近或略大于處理材料的分子化學(xué)鍵。這種能量水平的接近使得暴露在等離子中的導(dǎo)管材料分子的化學(xué)鍵容易中斷,或者小分子與基體分離,或者新的化學(xué)鍵導(dǎo)致交聯(lián)或自由基?;瘜W(xué)刻蝕效果不明顯;從SEM根據(jù)分析結(jié)果,物理濺射效果明顯,物理濺射和化學(xué)刻蝕同時(shí)起作用。因此,可以推斷,氧等離子在導(dǎo)管表面處理的早期物理濺射中起著主導(dǎo)作用。導(dǎo)管表面O清洗等離子設(shè)備會(huì)導(dǎo)致表面刻蝕,使表面光滑,提高親水性。O2.等離子設(shè)備清洗形成的表面膜化學(xué)結(jié)構(gòu)變化不大,避免了導(dǎo)管在實(shí)際應(yīng)用中的副作用。

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