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CRF plasma 等離子清洗機

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真空等離子清洗設備可以說在半導體封裝領域有6個方面的應用

真空等離子清洗設備可以說在半導體封裝領域有6個方面的應用:
       由于等離子體并非液體、固體或氣體,因此等離子體可被描述為“第四狀態”。電漿以離子和電子的形式存在。從根本上說,它是一個離子化氣體,無論正反,都帶有額外的電子。地球上的自然活動相對較少,而宇宙其他地方的等離子體也非常豐富。雷電,靜電和極光是地球上天然血漿的主要來源。真空等離子清洗設備是怎樣做好的?對于等離子體,我們先制造等離子體。將氣體或氣體混合物引入密封的低壓真空等離子體室內。這種氣體通過電極陣列之間產生的RF(RF)功率被激發。那些氣體中的激活離子被加速并開始振動。這一震動“擦洗”了室內表面,清除了污染物。這樣,激發的氣體分子和等離子體中的原子就發出紫外光。它導致了血漿發光。溫控系統通常用來控制腐蝕速度。60到90度之間的溫度比周圍環境溫度的等離子腐蝕快4倍。對溫敏元件或使用溫度敏感元件,等離子蝕刻可降至15攝氏度。
       所有的溫度控制系統都是預先編程并集成到軟件中。將不同的氣體引入空腔,能夠對過程做好修改。常見氣體有O2、N2、Ar、H2和CF4。大部分實驗室都將這五種氣體單獨或聯合用于真空等離子清洗設備。

真空等離子清洗設備

真空等離子清洗設備可以說在半導體封裝中無處不在,下面列出6個要點:
(1)真空等離子清洗設備清洗晶片:清除殘留的光刻膠;
(2)真空等離子清洗設備點銀膠包裝前:使工件表面粗糙度、親水性大大提高,有利于銀膠鋪平及芯片粘貼,同時可大大節省銀膠用量,降低成本;
(3)真空等離子清洗設備引線連接前的清理:清潔焊盤,改善焊接條件,提高焊接穩定性和良率;
(4)真空等離子清洗設備塑封:提高塑封料與產品粘合的穩定性,降低分層風險;
(5)真空等離子清洗設備基板清洗:BGA貼裝前先對PCB表面做好等離子體處理,能夠使Pad表面做到清潔、鈍化處理和活化的作用,大大提高BGA貼裝的成功率;
(6)FlipChip線框清洗:通過真空等離子清洗設備能夠做到機架表面超凈化活化的作用,改善芯片的粘合質量。

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