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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子清洗機利用活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面的

      等離子清洗機是利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效(果),是一種全新的高科技技術(shù)。等離子清洗機具備低溫清洗的優(yōu)勢,滿足不同場合溫度要求,不會對清洗的產(chǎn)品造成溫度影響。等離子清洗機清洗的原理主要是通過附著力、(活)化、清潔三步驟來完成的。附著力是指提高物品表面的附著力,提高表面粘接的可靠性;活(化)是通過大幅度提高表面的浸潤性能,形成活性的表面;清潔主要是去除微笑塵埃,激(活)鍵能,精細(xì)清洗。等離子清洗在手機蓋板應(yīng)用(十)分廣泛,手機蓋板、手機玻璃、鋼化膜等噴涂前需要采用等離子清洗,增加產(chǎn)品表面潔凈度,可以明(顯)提高表面的活性,從而增強附著效(果)。

      等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

等離子清洗機

      等離子清洗機的清洗原理是等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激(活)狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。等離子清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活(化)作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。

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