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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

擴(kuò)展型CRF低溫等離子發(fā)生器的plasma技術(shù)

擴(kuò)展型CRF低溫等離子發(fā)生器的plasma技術(shù):
       利用低溫等離子發(fā)生器技術(shù)清除金屬、陶瓷、塑料等表面的有機(jī)污染物,可明顯增強(qiáng)其粘接性能和焊接強(qiáng)度。分離過程可以很容易的控制,并且安全的重復(fù)。假如有效的表面處理對于產(chǎn)品的可靠性或工藝效率的提高是至關(guān)重要的,那么等離子技術(shù)來說是理想的。
       低溫等離子發(fā)生器通過表面活化、蝕刻和表面沉積,可以提高絕大多數(shù)材料的性能:潔凈度、親水性、隔水性、粘結(jié)性、刻度性、潤滑性、耐磨性。
擴(kuò)展型低溫等離子發(fā)生器清洗原理及創(chuàng)新:

低溫等離子發(fā)生器

       在1組金屬電極上施加射頻電壓(頻率約幾十兆赫茲),在金屬電極之間形成高頻交變電場,在交變電場的刺激下,區(qū)域內(nèi)的氣體就會形成等離子體,活性等離子會對被清洗物產(chǎn)生物理轟擊作用,同時(shí)還會產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),將被清洗物的表面物質(zhì)轉(zhuǎn)變成顆粒和氣體,通過抽真空的方式排出,從而達(dá)到清洗目的。
       事實(shí)上,在整個(gè)生產(chǎn)過程中,低溫等離子發(fā)生器的關(guān)鍵控制要素包括加工溫度,射頻功率,氣體分布,真空度,金屬電極設(shè)置,靜電保護(hù)等。控制系統(tǒng)和這些交互影響參數(shù)對于系統(tǒng)性能來說至關(guān)重要。
       延伸式低溫等離子體已經(jīng)應(yīng)用于各種電子器件的生產(chǎn)中,沒有了低溫等離子發(fā)生器及其清洗技術(shù),就沒有今天這樣發(fā)達(dá)的電子、信息、通訊產(chǎn)業(yè)。此外,等離子清洗機(jī)及清洗技術(shù)在光學(xué)、機(jī)械與航天、聚合物、污染防治與測量等領(lǐng)域也被廣泛應(yīng)用,是產(chǎn)品升級的關(guān)鍵技術(shù)。如光學(xué)零件涂層、延長模具使用壽命的耐磨層、復(fù)合材料的中間層、織物或隱式鏡的表面處理、微傳感器的制造、超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心瓣的抗摩擦層等。要完成等離子技術(shù)的發(fā)展,就需要發(fā)展。

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