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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

一般認(rèn)為crf等離子體發(fā)生器條件下甲烷由下列兩條路徑生成乙炔

一般認(rèn)為crf等離子體發(fā)生器條件下甲烷由下列兩條路徑生成乙炔:
       體系內(nèi)CO2濃度由15%增至35%時(shí),C2烴收率略有增加;隨著體系內(nèi)CO2濃度的進(jìn)一步增加,C2烴收率逐漸下降。這是由于在高CO2濃度下,體系內(nèi)過多的活性氧物種一方面與CH4分子作用生成氧化產(chǎn)物,另一方面與已生成的C2烴產(chǎn)物作用,促使C2H6、C2H4、C2H2轉(zhuǎn)化為氧化產(chǎn)物。CO收率則隨CO2濃度增加呈上升狀態(tài),并在CO2濃度高于50%時(shí)成為恒值。同時(shí),隨著體系中CO2濃度由15%增至85%,產(chǎn)物中H2和CO的摩爾比率由3.5降至0.6。上述研究結(jié)果表明:在一定等離子體發(fā)生器條件下,為獲得較高的C2烴收率及合適的H2/CO比值,應(yīng)選擇較低CO2加入量。在本實(shí)驗(yàn)條件下,其值應(yīng)在20%~35%。

等離子體發(fā)生器

        C2烴分布隨著體系內(nèi)CO2濃度增加,C2H2的摩爾分?jǐn)?shù)隨之降低;而C2H6、C2H4的摩爾分?jǐn)?shù)則呈現(xiàn)不斷上升態(tài)勢(shì)??赡艿脑蚴牵?/span>
1、體系中越來越多的CO2分子將吸收更多的能量,減少高能電子數(shù)量,阻礙了CH3(CH2)自由基的C-H鍵進(jìn)一步斷裂,導(dǎo)致CH3、CH2、CH自由基濃度分布發(fā)生改變。自由基偶合反應(yīng),使體系內(nèi)C2烴分布發(fā)生變化;
2、正如N2、He等惰性氣體在等離子體發(fā)生器條件下的甲烷偶聯(lián)反應(yīng)中所扮演的角色,體系中的CO2分子也起到了稀釋氣體的作用。
一般認(rèn)為等離子體發(fā)生器條件下甲烷由下列兩條路徑生成乙炔:
1、CH自由基的偶合反應(yīng);
2、C2H6、C2H4脫氫反應(yīng)。
        隨著體系內(nèi)CO2濃度不斷增加,大量的高能電子被消耗,C2H6、C2H4與高能電子碰撞概率不斷降低,進(jìn)一步的脫氫反應(yīng)受到阻礙,C2H4生成量進(jìn)一步降低。因此,隨著體系內(nèi)CO2濃度增加,C2H6、C2H4的摩爾分?jǐn)?shù)呈現(xiàn)不斷上升態(tài)勢(shì),而C2H2的摩爾分?jǐn)?shù)隨之降低。

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