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CRF plasma 等離子清洗機

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真空等離子清洗機通過兩個電極形成電磁場

      真空等離子清洗機通過兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發生碰撞而形成等離子體，同時會發生輝光，等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，達到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有(機)物，以及其它化學物質，從而達到表面處理、清洗和刻蝕效(果)，經過等離子處理工藝可以實現有選擇的表面改性。

真空等離子清洗機

      等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。從通常的能量排布：氣體>液體>固體的角度來說，等離子的能量比氣體更高，能表現出一般氣體所不具有的特性，所以也被稱為物質的第四態。當氣體電離生成電子正離子一般在段時間內發生結合，回到中性分子狀態，這個過程產生的電子、離子的一部分能量以電磁波等不同形式消耗，在分子離解時常生成自由基，生成的電子結合中性原子，分子形成負離子。因此，整個等離子體是電子正負離子激發態原子，原子以及自由基的混合狀態。因為各種化學反應都是在高激發態下進行的，與經典的化學反應完(全)不同。這樣使等離子體的原子或分子的本性通常都發生改變，即使是較穩定的惰性氣體也會變得具有很強的化學活潑性。
      真空等離子清洗機由真空發生系統、電氣控制系統、等離子發生器、真空腔休、機械等幾個部分組成，可以根據客戶的特殊要求定制符合客戶需要的真空系統，真空室。容易采用數控技術，自動化程度高；具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得到保證；由于是在真空中進行，不污染環境，保證清洗表面不被二次污染。

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