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CRF plasma 等離子清洗機

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在芳綸材料中,誠峰智造plasma清洗技術的作用是什么?

       誠峰智造plasma是物質的一種存在狀態,也稱為第四狀態(通常物質是固體、液體、氣態三種狀態),是利用高壓電源在一定壓力情況下對氣體增加足以能量而產生的。清潔狀態中有下列物質:處于高速運動狀態的電子、處于活躍狀態的中性原子、分子、原子團(自由基)、離子化原子、分子、未反應分子、原子等,但物質總體上仍然保持電中性。

plasma

       清潔性能主要與等離子體激勵頻率有關,目前國際上較常用的激勵頻率有四十KHz、13.56MHz、20MHz,采用SUNJUNE善準的VP-S、VP-R和VP-Q系列三種,不同激勵頻率的等離子體對材料處理的功效各不相同,于是掌控plasma清洗的工作原理對我們深入了解等離子體技術有很大幫助。目前,等離子清洗技術在芳綸材料中有什么作用?
它具有密度低、強度高、韌性好、耐高溫、易加工成型等特點,已普遍使用于航天制造行業。在一些使用場合,芳綸在成型后還需要與其它零件粘接,但該材料表面光滑,具有化學惰性,所制件表面不易涂膠。為達到良好的粘結功效,需進行表面處理,目前主要采用等離子體改性法。
       用plasma清洗后,表面活性增強,粘結效果顯著提高,并通過等離子體處理工藝基本參數的持續調優,功效會全面提高,使用范疇也會更廣。此外,芳綸復合材料制作后的表面需涂覆環氧清漆和底漆,以防止材料因吸潮而導致失效。復合加工過程中,在其表面涂上脫模劑,可使零件與模具順利分離,但加工后脫模劑會殘留在制件表面,不能經濟、有效地進行清洗,導致涂覆后涂層附著力差,極易脫落,影響制件使用。所以可以考慮采用等離子清洗技術經濟、有效去除脫模劑污染物。

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