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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

真空腔體里,射頻電源在一定的壓力情況下起輝能產(chǎn)生高能量

真空等離子清洗原理:
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。 

在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗目的。 

 等離子體

真空等離子清洗的優(yōu)勢(shì) :
等離子清洗作為重要的材料表面改性方法,已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。 
1)處理溫度低,處理溫度低至80℃、50℃以下,以確保對(duì)樣品表面不造成熱影響。 
2)由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染,所以處理全程無污染,與原有生產(chǎn)流水線搭配,實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn),節(jié)約人力成本。 
3)等離子清洗使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害,同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問題。 
4)使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)。 
5)等離子體清洗可以不分處理對(duì)象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。 
6)使用等離子清洗,避免了對(duì)清洗液的運(yùn)輸、存儲(chǔ)、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生。  
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