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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

CRF電暈等離子處理機歷史發(fā)展進程

CRF暈等離子處理機歷史發(fā)展進程:
       等離子體于1879年被發(fā)現(xiàn),1928年被稱為“plasma”,是一個微觀系統(tǒng),由大量相互作用但仍然處于非束縛狀態(tài)的帶電粒子組成,它們是除氣態(tài)、液態(tài)和固態(tài)以外的物質(zhì)第四態(tài)。利用電子溫度和離子溫度可以分別表示等離子體溫度,CRF暈等離子處理機的電離率較低,離子溫度甚至可以與室溫相相差無幾,因此,日常生活中有很多場景可以運用低溫等離子體技術(shù)。在CRF電暈等離子處理機發(fā)生的過程中也可以產(chǎn)生大量的活性粒子,這些粒子比一般化學反應產(chǎn)生的反應種類更多,活性更強,與材料表面接觸時反應更簡單。與傳統(tǒng)式的物理和化學方式相較,等離子體表面處理低成本,不容易產(chǎn)生廢料,對環(huán)境無污染,因此低溫等離子體材料的表面改性處理非常合適,此外,電暈等離子處理機還可用于制備有機和無機納米顆粒,用于殺菌等領(lǐng)域。

電暈等離子處理機


       CRF暈等離子處理機的產(chǎn)生,能夠通過紫外輻射、電磁場激發(fā)、高溫加熱以及應用X射線等方式,其間,電磁場激發(fā)方式,也就是技術(shù)較為簡單的操縱氣體釋放方式,在實驗室研究和工業(yè)生產(chǎn)中使用得多。弧光放電是各種氣體放電產(chǎn)生的等離子體中的一種;電暈放電產(chǎn)生的低溫等離子體中難以產(chǎn)生足量的活性粒子;直流輝光放電需要低壓環(huán)境,因此需要使用價格昂貴的真空系統(tǒng),從而難以實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn);低頻交流放電等離子體的電極暴露在外,只對簡單污染產(chǎn)生的等離子體進行污染,因此這些氣體放電方式都不適合用于大型流水線工業(yè)。

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