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等離子清洗機設備放電電壓對等離子體CH4臨H2轉化反應的影響：
隨著放電電壓的增大甲烷的轉化率和C2烴收率呈上升趨勢，C2烴選擇性先增大后減小，在等離子清洗機設備放電電壓為16kV時C2烴選擇性大。據文獻報道，等離子清洗機設備等離子體條件下，CH活性物種的發射強度變化直接受工作氣壓和放電參數的影響。
由CH活性物種的強弱可探知甲烷在等離子體中裂解的程度，因為同一條譜線的強度和該成分的粒子密度成正比，所以通過譜線的相對強度隨各工藝參數的變化可推測該粒子數隨相應工藝參數的變化。提高放電電壓，等離子清洗機設備CH活性物種的發射強度隨放電電壓的增加而增強。
分析其原因是在氣體流速不變的條件下，輸入電壓低時電子受電場加速獲得的能量低，同時低能態下總的碰撞橫截面積也較低，CH4與高能電子的碰撞概率小，從而導致生成的活性物種少。隨著放電電壓的升高，電離率和電子密度增加，同時高能電子與CH4碰撞橫截面也隨之增大，意味著碰撞概率加大，生成的CH活性物種增多。同時也注意到，在實驗過程中，隨著電壓的增加，反應器壁上的積碳有所增加。
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