等離子處理設備廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。plasma等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔等目的。plasma等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、活化和表面準備等。等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

      plasma等離子清洗機的結構主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。

      1.控制單元

      國內的等離子清洗機，包括國外進口的，控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。而控制單元又分為兩個大的部分：

      1）電源部分：主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的。

      2）系統控制單元：分三種，按鈕控制（半自動、全自動）、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。

      2.真空腔體

      真空腔體主要是分為兩種材質的：

      1）不銹鋼真空腔體。

      2）石英腔體。

      3.真空泵

      真空泵分為兩種：

      1）干泵。

      2）油泵。

      等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發出輝光，故稱之為輝光放電處理。

      plasma等離子清洗機技術的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。

       經濟的發展，人們的生活水平不斷提高，對消費品的質量要求也越來越高，等離子技術隨之逐步進入生活消費品生產行業中；另外，科技的不斷發展，各種技術問題的不斷提出，新材料的不斷涌現，越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性，并投入大量資金進行技術攻關，等離子技術在其中發揮了非常大的作用。我們深信等離子技術應用范圍會越來越廣；技術的成熟，成本的降低，其應用會更加普及。