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CRF plasma 等離子清洗機

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與傳統有機溶劑濕法清洗相比,誠峰智造解說等離子清洗機的幾大優勢,使您更了解等離子清洗機

      等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質。等離子清洗、刻蝕產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子問距及分子或離子的白由運動距離也越來越長,受磁場作用,發生碰撞而形成等離子體,同時會發生輝光。等離子體在電磁場內空間運動,并轟擊被處理物體表面,從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

      與傳統使用有機溶劑的濕法清洗相比,等離子清洗具備以下幾大優勢:

      1.清洗對象經等離子清洗之后是干燥的,不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;

      2.采用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務,因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。

      3.等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統的濕法清洗工藝;

      4.等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題。

      5.避免使用工氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環保的綠色清洗方法。這在全球高度關注環保的情況下越發顯出它的重要性!

      6.等離子體清洗可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材質,無論是金屬、半導體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體米處理。

      7.使用等離子清洗,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產場地很容易保持清潔衛生;

      9.在完成清洗去污的同時,還可以改善材料不身的衣面性能。如提高表面的潤濕性能、善膜的黏著力等,這在許多應用中都是非常重要的。



      8.使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成,因此具有產率高的特點; 

      目前等離子清洗應用越來越廣泛,國內外的使用者對等離子體清洗的要求也越來越高。好的產品還需要專業的技術支持與維護。

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