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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

CRF低溫等離子發(fā)生器解決表面熔覆鍍層裂紋問題讓鍍層廣泛應(yīng)用

CRF低溫等離子發(fā)生器解決表面熔覆鍍層裂紋問題讓鍍層廣泛應(yīng)用:
       與激光熔覆工藝相比,CRF低溫等離子發(fā)生器等離子技術(shù)具有能量轉(zhuǎn)換效率高、設(shè)備投資小以及操作維修簡(jiǎn)便等特性,在近幾年得到空前的發(fā)展,采用低溫等離子發(fā)生器已經(jīng)獲得了類似激光熔覆的鍍層。

低溫等離子發(fā)生器

       采用驅(qū)體-碳化復(fù)合型工藝制備了火焰噴涂復(fù)合型粉體和等離子體,這些碳同時(shí)作為反應(yīng)組元和復(fù)合物中的粘結(jié)劑,在每個(gè)等離子體內(nèi)形成由碳包覆而成的粉狀結(jié)構(gòu)。在等離子體送粉過程中,有機(jī)碳化生成的碳具有較強(qiáng)的吸附能力,從而使原料的粉體強(qiáng)力結(jié)合在一起。
炭化后的復(fù)合型粉粒密度更接近一致,顆粒尺寸和流動(dòng)性也比較接近,這一關(guān)鍵問題有望解決等離子體工藝對(duì)粉體流動(dòng)性的要求。熔覆層開裂問題一直是限制鍍層廣泛應(yīng)用的瓶頸,而在當(dāng)前,合理制定鍍層成分是解決鍍層裂紋問題的有效涂徑。前驅(qū)體碳化復(fù)合型工藝和crf低溫等離子發(fā)生器的特性經(jīng)過制定探討等離子體熔鍍層反應(yīng)合金成分制備高質(zhì)量的抗裂等離子體鍍層。
       TiC增強(qiáng)了高鉻鐵基(Fe--Cr-C-Ti)鍍層的微觀組織結(jié)構(gòu)為大量的灰黑色顆粒狀和枝晶相,其鍍層主要有奧氏體(A)、共晶相(Cr,Fe)、C3(B)和原位TiC相(C)組成。鍍層的熔合區(qū)附近TiC顆粒的體積分?jǐn)?shù)較小,鍍層中部區(qū)域TiC顆粒的體積分?jǐn)?shù)稍大鍍層表面TiC顆粒的體積分?jǐn)?shù)大。鍍層的熔合區(qū)和中部區(qū)域TiC顆粒外形大部分是等軸狀顆粒而鍍層的表層區(qū)域部分顆粒是樹枝晶、這是由于熔池中熱量傳輸和Ti、C濃度局部不均勻容易在TiC生長(zhǎng)的前沿形成成分過冷而且TiC原位合成反應(yīng)的放熱效應(yīng)使得Ti、C原子向其前端快速外擴(kuò)散并形核生長(zhǎng),形成較多呈樹枝狀的TiC顆粒。


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